外国特許文献の検索環境の充実めざす 特許庁

2013年06月25日 17:35

 特許庁が特許制度利用者のニーズ把握のために行った調査で、特許審査などの質に対し、特許出願(国内)審査全般の評価に満足が1.4%、比較的満足が30.2%と満足が31.6%を占め、普通(56.6%)を含め、88.2%が普通以上の評価をしていることが分かった。また、国際調査などの質については95.1%が普通以上の評価だった。

 特許庁では「国内特許文献の調査や面接・電話対応、審査官からの通知内容などに満足との回答が比較的多かった」とした。

 また「特許性の判断分野や審査官間でのばらつきの低減、外国特許文献の調査の充実などにユーザーのニーズが高いことも明らかになった」としている。さらに「個別の出願案件についての回答で、審査官からの通知内容について説明記載の充実を望む声も比較的多く見られた」としている。

 このため特許庁では「外国特許文献の検索環境の充実や技術分野横断的なまとめ審査などを通じて、質の維持・向上に努める」などアンケートの結果を反映させることにしている。

 調査は利用者675者、出願案件2765件を対象に実施され、質の全体評価のほか、審査手続きの質に対する質問を5段階で評価を受けるなどした(回答率9割超)。(編集担当:森高龍二)