政治・経済・テクノロジーなどの知りたい情報をお届け
シリコンフォトニクスチップとレーザー処理を表現したイメージ。京セラと東北大学電気通信研究所は、近赤外レーザーによる局所的な「レーザーアニーリング」を活用し、光アイソレータをシリコンフォトニクスチップ上に直接形成・集積する技術を開発。実験では13.6dBのアイソレーション比を確認し、戻り光を約95％低減した。（画像はイメージ）
トピックス
週末コラム、話題のニュースを斬る！
アクセスランキング
Copyright（C）2012-2026 Economic News 無断転載を禁じます。